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对更小、更强大、更节能的半导体器件的持续需求刺激了对先进光刻器件的需求增长。随着半导体技术的发展，制造商需要能够生产具有更小特征尺寸和更高分辨率的设备。云计算和数据中心的扩展增加了对高性能处理器和存储芯片的需求。越来越多的电子设备，如智能手机、平板电脑、物联网设备和汽车电子设备的使用正在推动光刻设备的市场需求。5G、人工智能、自动驾驶等新兴技术的开发和商用化需要专门的半导体设备。它的发展和商业化是基于足够先进的光刻设备的存在来制造这些先进的组件。因此，光刻设备涉及的行业和领域范围的扩大将在未来几年继续推动市场。政府和行业团体投资于研发和制造基础设施，以促进一个地区的半导体制造业。这些策略可以提振市场。此外，消费电子领域的不断创新和升级促使半导体制造商投资于OLED显示器等尖端光刻设备产品，而高性能处理器在此背景下至关重要。预计在预测期内，这种创新和对先进半导体产品开发的投资增加将推动市场增长。2022年市场竞争格局的特点是主要行业领导者的出现和对市场的重大影响。这些领先的公司包括ASML···

参展企业数量再创新高，展出面积扩大一倍，参展企业成效显著今年，CSEAC将设立3个展厅，展览面积超过2.8万平方米，共有389家企事业单位参展，其中上市企业25家。参展企业数量比上届增加了2.7倍，展出面积是上届的3.5倍。参展商涵盖半导体设备产业链的各个环节。展会中的增长数据显示，中国半导体设备制造商的队伍正在逐步扩大，市场需求不断增加，有能力、有产品、有需求的参展商越来越多，中国半导体设备领域的实力越来越强。

像考霞、佳能和日本印刷这样的公司是这条技术道路的主要推动者，他们正在共同开发并计划在2025年之前将这项技术投入实际应用。日经新闻此前表示，与EUV光刻工艺相比，使用纳米压印光刻技术制造芯片可以降低近40%的制造成本和90%的功耗。纳米压印黑技术到底是什么?能否取代复杂的光学光刻?数据表明，纳米压印是一种采用传统机械模具微复制原理的微纳米加工技术。简而言之，传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上来转移电路图案，而纳米压印光刻芯片则将印有电路图案的掩模压印到晶圆上的抗蚀剂上，就像在橡皮泥上盖章一样，然后释放芯片。